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穩(wěn)鈦克為您解析電源管理技術(shù)的前沿趨勢 發(fā)布時間:2020-10-26 閱讀人數(shù):

當(dāng)今電子產(chǎn)業(yè)蓬勃發(fā)展,作為電子產(chǎn)品重要組成部分的電源產(chǎn)品,其技術(shù)發(fā)展前沿趨勢是怎樣的呢?穩(wěn)鈦克為您解析電源管理技術(shù)的前沿趨勢。

1、高功率密度

提高功率密度以在更小的空間內(nèi)實現(xiàn)更大的功率,從而以更低的系統(tǒng)成本增強(qiáng)系統(tǒng)功能功率密度,在更小的空間內(nèi)實現(xiàn)更大的功率,從而以更低的系統(tǒng)成本增強(qiáng)系統(tǒng)功能。隨著人們對電源的要求越來越多,電路板面積和厚度日益成為限制因素。電源設(shè)計人員必須向其應(yīng)用中集成更多的電路,才能實現(xiàn)產(chǎn)品的差異化,并提高效率和增強(qiáng)熱性能。使用 TI 的先進(jìn)工藝、封裝和電路設(shè)計技術(shù),現(xiàn)能以更小的外形尺寸實現(xiàn)更高的功率等級。

電源技術(shù)前沿趨勢

2 、低 IQ

在不影響系統(tǒng)性能的同時,降低靜態(tài)電流以延長電池壽命和貨架壽命。在電池供電的系統(tǒng)中,為了在空載或輕負(fù)載條件下實現(xiàn)高效率,需要電源解決方案在保持超低供 電電流的同時,對輸出進(jìn)行嚴(yán)格調(diào)節(jié)。借助 TI 的超低 IQ 技術(shù)和產(chǎn)品組合,您可在下一個設(shè)計中實現(xiàn)低功耗,并最大限度地延長電池運行時間。低待機(jī)功耗,使用超低泄漏元件和新型控制拓?fù)?,延長電池運行時間。快速喚醒和低待機(jī)功耗。

電源管理前沿趨勢

3、低 EMI

最大限度地減少干擾,以降低系統(tǒng)成本并快速滿足EMI 標(biāo)準(zhǔn)。通過減少輻射發(fā)射,降低系統(tǒng)成本并快速滿足 EMI 標(biāo)準(zhǔn)電磁干擾 (EMI) 是電子系統(tǒng)中越來越重要的一個關(guān)鍵因素,在汽車和工業(yè)應(yīng)用等新應(yīng)用中尤其如此。低 EMI 設(shè)計可為您顯著縮短開發(fā)周期,同時還可減少電路板面積和解決方案成本。利用先進(jìn)的擴(kuò)頻技術(shù),降低產(chǎn)生的 EMI 所帶來的影響,先進(jìn)的 EMI 緩解技術(shù)可減小無源濾波器的尺寸。減少設(shè)計時間并降低復(fù)雜性

當(dāng)今電源技術(shù)

4、低噪聲和高精度

增強(qiáng)功率和信號完整性,以提高系統(tǒng)級保護(hù)。高 PSRR 可實現(xiàn)更好的濾波和更低 的輸出噪聲。

5、隔離:通過高壓隔離柵傳輸信號和/或電力,以提高較高工作電壓下的安全性和可靠性。隔離旨在出現(xiàn)危險高電壓的情況下提供可靠的保護(hù)。電隔離可將兩個電源域電氣隔離,從而使電力或信號在不影響人身安全的情況下通過隔離柵傳輸,同時還可以防止接地電位差并提高抗噪性能。TI 的隔離技術(shù)和產(chǎn)品組合在不影響性能的同時,超過了德國汽車工業(yè)協(xié)會 (VDA)、加拿大標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會 (CSA) 和美國保險商試驗室 (UL) 等標(biāo)準(zhǔn)要求。

電源管理技術(shù)

綜上所述,高功率密度,低IQ、低EMI、低噪聲和高精度、隔離這5點,是當(dāng)今電源技術(shù)的發(fā)展趨勢。


穩(wěn)鈦克是國內(nèi)領(lǐng)先的從事高性能信號隔離器、安全柵等自動化電子接口模塊研制的高新技術(shù)企業(yè),在高性能和高可靠信號隔離和傳輸上擁有多項專有技術(shù),其產(chǎn)多次配套西門子、ABB、AB、施耐德自動化產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于水處理、冶金、石化、礦山、水泥、電力等行業(yè)的PLC和DCS系統(tǒng)中。


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